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kla系统,引领半导体检测技术的创新先锋

时间:2024-10-19 来源:网络 人气:

KLA系统:引领半导体检测技术的创新先锋

KLA系统概述

KLA系统是KLA公司针对半导体制造过程中的缺陷检测、检视和分类而开发的一系列产品。这些产品包括光学缺陷检测系统、电子束缺陷检视系统、晶圆级封装检测系统等,旨在帮助半导体制造商提高产品质量、降低生产成本,并缩短产品上市时间。

eSL10电子束图案化晶圆缺陷检查系统

2020年7月,KLA公司推出了革命性的eSL10电子束图案化晶圆缺陷检查系统。该系统具有独特的检测能力,能够检测出常规光学或其他电子束检测平台无法捕获的缺陷,从而加速了高性能逻辑和存储芯片的上市时间。

eSL10系统采用了全新的电子束架构和算法,实现了高分辨率、高速检测功能,弥补了现有设备无法解决的问题。KLA电子束部门总经理Amir Azordegan表示:“eSL10系统将电子束检测性能提升到了一个新水平,为制造尖端产品提供了至关重要的设备。”

392x和295x光学缺陷检测系统

2019年7月,KLA公司发布了392x和295x光学缺陷检测系统。这些系统是KLA公司旗舰产品系列——图案晶圆平台的进一步拓展,其检测速度和灵敏度均有提升,代表了光学检测的新水准。

392x和295x系统在宽光谱等离子照射技术、传感器架构和整合芯片设计数据等方面都取得了实质性突破,为半导体制造商提供了更高效、更精准的缺陷检测解决方案。

Kronos 1190晶圆级封装检测系统

2020年9月,KLA公司推出了Kronos 1190晶圆级封装检测系统。该系统具有更高的灵敏度和产量,并包含下一代增强算法,旨在应对特征尺寸缩小、3D结构和异构集成所带来的复杂性。

Kronos 1190系统帮助客户在封装阶段推进半导体元件制造,提高产品性能,并拓展技术和成本蓝图。

Archer 750套刻量测系统和SpectraShape 11k光学CD量测系统

2022年1月,KLA公司推出了Archer 750基于成像技术的套刻量测系统和SpectraShape 11k光学CD量测系统。这些系统主要应用于集成电路制造,帮助IC制造商严格控制制程,将高性能存储器和逻辑芯片推向市场。

Archer 750和SpectraShape 11k系统为晶圆厂客户带来了急需的制程控制功能,确保了高质量标准的芯片产品。

KLA系统助力半导体行业持续发展

作为半导体检测领域的创新先锋,KLA系统凭借其卓越的性能和先进的技术,为全球半导体制造商提供了强有力的支持。在未来,KLA将继续致力于研发创新,助力半导体行业持续发展,为全球科技产业贡献力量。


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